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      高反光物的形貌測(cè)量需要注意哪些問(wèn)題呢?

      時(shí)間:2024-9-19 作者:kefu 點(diǎn)擊:349

       

       

      在所有形貌測(cè)量的物體中,有難度的其實(shí)就是測(cè)量帶有反光的零件了。因?yàn)楸旧磉@種高反光的零件在被挫削之后,其外形的邊緣和輪廓就會(huì)變得很模糊,這個(gè)時(shí)候再進(jìn)行形貌測(cè)量就很困難了。如果我們還是采用傳統(tǒng)的方式進(jìn)行測(cè)量的話(huà),就很容易造成數(shù)據(jù)的空洞,其實(shí)其測(cè)量的意義就不大了。而采用形貌測(cè)量的關(guān)鍵,則要形成有意義的數(shù)據(jù),針對(duì)于這種反光物體的測(cè)量,盡量可以形成動(dòng)態(tài)的測(cè)量。下面我們就來(lái)看看針對(duì)這種高反光物的測(cè)量有什么需要注意的地方呢?

       

      1高反光的形貌測(cè)量有哪些難度呢?

      這是因?yàn)楸旧碓谖矬w的表面就有很多高強(qiáng)度的光線(xiàn)反射,可以形成較為明顯的高光,這種情況下,我們發(fā)現(xiàn)物體的高反光將曝光加大了。如果這個(gè)時(shí)候其他地方的曝光也有問(wèn)題的話(huà),出現(xiàn)的整體表面就會(huì)有大量的紋路細(xì)節(jié)。而這個(gè)時(shí)候的形貌測(cè)量很大的作用在于減少這樣的紋路細(xì)節(jié),讓表面的測(cè)量數(shù)據(jù)更加規(guī)范化和形態(tài)化。

      2高反光的測(cè)量主要應(yīng)用領(lǐng)域有哪些呢?

      目前這種形貌測(cè)量主要是用于在各種工業(yè)設(shè)計(jì)領(lǐng)域,尤其是需要設(shè)計(jì)帶有高光的物體和零件,利用其測(cè)量可以看到不同的地方的數(shù)據(jù),形成一個(gè)立體的三維結(jié)構(gòu)的數(shù)據(jù)。當(dāng)然其很大的意義就是提高測(cè)量的準(zhǔn)確度和檢測(cè)的效率了。當(dāng)然正是因?yàn)槠渚邆浜芎玫墓δ芎妥饔茫圆庞刑貏e高的形態(tài)測(cè)量意義。

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